產(chǎn)品詳細介紹
顯影清洗機
適用對象:硅片 、藍寶石基片,2-12inch,2-4 cassette/ Batch,25 Pcs/cassette;
適用產(chǎn)業(yè):半導體照明(LED)、半導體材料、半導體分立器件、集成電路、MEMS、有機發(fā)光二級管(OLED)等;
控制模式:手動控制模式、自動控制模式;
制程應用:濕法清洗顯影制程;
PSS襯底(SPM)清洗機
產(chǎn)能要求: GaN工藝 150000片/月和PSS工藝 105000片/月,共計255000片/月(設計機臺GaN工藝和PSS工藝各有1道,按照25分鐘/run,50片/run。產(chǎn)能共計270000片/月,按照22小時/天, 26天/月計算)滿足要求 ;
藥液種類:超聲波:去光阻液或ITO溶液;511溶液(H2SO4:H2O2:H2O=5:1:1);稀HCl溶液(HCl:H2O=1:5) ;
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