美國(guó)PINE雙恒電位儀電化學(xué)工作站200
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產(chǎn)品型號(hào)：WaveDrive200
產(chǎn)品代碼：1
產(chǎn)品價(jià)格：1
產(chǎn)品編碼：1
計(jì)量單位：1
折 扣 率： 0
最后更新：2017-07-15
關(guān) 注 度：3883
生產(chǎn)企業(yè)：理化公司
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產(chǎn)品詳細(xì)介紹美國(guó)PINE雙恒電位儀/電化學(xué)分析儀/電化學(xué)工作站200
產(chǎn)品簡(jiǎn)介：
產(chǎn)品型號(hào)：WaveDriver200
品牌：美國(guó)PINE
產(chǎn)地：美國(guó)
PINE公司推出新一代WaveDriver200恒電位儀/恒電流儀/零電阻電流計(jì)，可以用于兩電極、三電極、四電極模式，具有交流阻抗功能（EIS），可以廣泛地應(yīng)用于燃料電池、鋰電池、太陽(yáng)能電池、隔膜、超級(jí)電容器、傳感器、涂層、緩蝕劑、物理化學(xué)等研究領(lǐng)域，經(jīng)典應(yīng)用為旋轉(zhuǎn)圓盤(pán)圓環(huán)電極（RRDE）測(cè)試。
主要特點(diǎn)：
高性?xún)r(jià)比、雙恒電位儀（四電極模式）、RRDE測(cè)試功能強(qiáng)大（6種測(cè)量模式）、EIS交流阻抗測(cè)試功能強(qiáng)大、軟件功能強(qiáng)大（可編程、易篩選、好模板）。
詳細(xì)介紹：
接線：兩電極、三電極、四電極模式
具備浮地功能
最小電壓分辨率：78 μV
最小電流分辨率：3.13 pA
轉(zhuǎn)換速率：最快 10 V/μs
紋波噪聲：＜10 mVRMS
模擬數(shù)字轉(zhuǎn)換器：16 bit
順從電壓：±17V
泄漏電流：＜10 pA
帶寬（3 dB）：＞15 MHz
最大采樣點(diǎn)：1000萬(wàn)個(gè)/每次實(shí)驗(yàn)
儀器尺寸：160（寬）*255（高）*324（長(zhǎng)）mm
儀器重量：4.6 kg
IR補(bǔ)償：交流阻抗法（EIS）、電流中斷法（CI）、正反饋法（PF）
EIS交流阻抗參數(shù)
交流阻抗頻率范圍：10 μHz-1 MHz
頻率精度：±10 ppm
數(shù)據(jù)曲線：Lissajous、Bode、Nyqusit、 Mott-Schottky
數(shù)據(jù)模型：Circuit fit、Transmission line、Kramers-Kronig
Circuit fitting方法：修正的Levenberg-Marquardt法、Simplex法、Powell法
Circuit fitting選項(xiàng)：動(dòng)態(tài)選擇點(diǎn)、單位和參數(shù)
掃描方式：線性、對(duì)數(shù)、自定義
RRDE測(cè)試方法
Rotating Ring-Disk Voltammetry 旋轉(zhuǎn)圓盤(pán)圓環(huán)電極測(cè)試方法（RRDE）。 RRDE方法包含6種測(cè)試模式，功能強(qiáng)大。
Collection Mode：盤(pán)電極設(shè)置CV或LSV方法，環(huán)電極設(shè)置恒電壓CA方法；
Shielding Mode：盤(pán)電極設(shè)置恒電壓CA方法，環(huán)電極設(shè)置CV或LSV方法；
Window Mode：盤(pán)和環(huán)電極同時(shí)設(shè)置CV或LSV方法；
Diametric Mode：盤(pán)電極和環(huán)電極同時(shí)設(shè)置CV或LSV方法，但是呈鏡像測(cè)試；
Galvanostatic Mode：盤(pán)電極設(shè)置CV方法，環(huán)電極設(shè)置恒電流CP方法；
Galvanostatic Shielding Mode盤(pán)電極設(shè)置恒電流CP方法，環(huán)電極設(shè)置CV方法。
電壓參數(shù)
最大施加電壓：±15 V
準(zhǔn)確性：±0.2%（設(shè)定電壓）、±0.05%（測(cè)量電壓）
電壓量程：3檔（±2.5 V, ±10 V, ±15 V）
電壓分辨率：對(duì)應(yīng)上述3檔量程分別為78 μV/bit、313 μV/bit和469 μV/bit
電流參數(shù)
最大施加電流：±1 A
適用電流工作范圍：±20 pA到±1 A
準(zhǔn)確性：±0.2%（設(shè)定電流）、±0.05%（測(cè)量電流）
電流量程：8檔（從±100 nA到±1 A）
電流分辨率：0.0031%
電化學(xué)方法
Open Circuit Potential 開(kāi)路電位法（OCP）
Bulk electrolysis 電解法（BE）
Cyclic Voltammetry 循環(huán)伏安法（CV）
Linear Sweep Voltammetry 線性?huà)呙璺卜ǎ↙SV)
Spectroelectrochemistry 光譜電化學(xué)測(cè)試方法（SPECE）
Staircase Voltammetry 階躍伏安法（SCV）
Chronoamperometry 計(jì)時(shí)電流法/恒電位法（CA)
Double Potential Step Chronoamperometry 雙電位階躍計(jì)時(shí)電流法(DPSCA)
Cyclic Step Chronoamperometry 循環(huán)階躍計(jì)時(shí)電流法（CSCA）
Chronopotentiometry 計(jì)時(shí)電位法（CP）
Ramp Chronopotentiometry 斜坡計(jì)時(shí)電位法（RCP）
Staircase Potentiometry 階躍計(jì)時(shí)電位法（SCP）
Cyclic Step Chronopotentiometry 循環(huán)階躍計(jì)時(shí)電位法（CSCP）
Differential pulse Voltammetry 差分脈沖伏安法（DPV）
Square-Wave Voltammetry 方波循環(huán)伏安法 （SWV）
Normal Pulse Voltammetry 常規(guī)脈沖伏安法（NPV）
Rotating Methods 旋轉(zhuǎn)圓盤(pán)圓環(huán)電極測(cè)試方法
Rotating Disk Voltammetry (RDE)
Rotating Disk Koutecky-Levich (KL-RDE)
Rotating Disk Electrolysis (BE-RDE)
Rotating Disk Chronopotentiometry (CP-RDE)
Rotating Disk Ramp Chronopotentiometry (RCP-RDE)
Rotating Ring-Disk Voltammetry (RRDE)
Rotating Ring-Disk Electrolysis (BE-RRDE)
Rotating Ring-Disk Koutecky-Levich (KL-RRDE)
Corrosion Methods 腐蝕電化學(xué)方法
Linear Polarization Resistance (LPR)
Rotating Cylinder Voltammetry (RCE)
Rotating Cylinder Electrolysis (BE-RCE)
Rotating Cylinder Eisenberg Study (EZB-RCE)
Rotating Cylinder Open Circuit Potential (OCP-RCE)
Rotating Cylinder Polarization Resistance (LPR-RCE)
Rotating Cylinder Chronopotentiometry (CP-RCE)
Rotating Cylinder Ramp Chronopotentiometry (RCP-RCE)
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| 會(huì)員級(jí)別：免費(fèi)會(huì)員 |
| 加入時(shí)間：2014-07-25
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