產(chǎn)品詳細(xì)介紹
顯影清洗機(jī)
適用對(duì)象:硅片 、藍(lán)寶石基片,2-12inch,2-4 cassette/ Batch,25 Pcs/cassette;
適用產(chǎn)業(yè):半導(dǎo)體照明(LED)、半導(dǎo)體材料、半導(dǎo)體分立器件、集成電路、MEMS、有機(jī)發(fā)光二級(jí)管(OLED)等;
控制模式:手動(dòng)控制模式、自動(dòng)控制模式;
制程應(yīng)用:濕法清洗顯影制程;
PSS襯底(SPM)清洗機(jī)
產(chǎn)能要求: GaN工藝 150000片/月和PSS工藝 105000片/月,共計(jì)255000片/月(設(shè)計(jì)機(jī)臺(tái)GaN工藝和PSS工藝各有1道,按照25分鐘/run,50片/run。產(chǎn)能共計(jì)270000片/月,按照22小時(shí)/天, 26天/月計(jì)算)滿足要求 ;
藥液種類:超聲波:去光阻液或ITO溶液;511溶液(H2SO4:H2O2:H2O=5:1:1);稀HCl溶液(HCl:H2O=1:5) ;
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